1. 기계적 청소
(1) 청소 장치를 열고 플레이트를 닦습니다.
(2) 고압 수로 판을 청소하십시오.
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참고 :
(1) EPDM 개스킷은 30 분에 걸쳐 방향족 용매와 접촉해서는 안됩니다.
(2) 판의 뒷면은 청소할 때 직접 접지를 만질 수 없습니다.
(3) 물 세척 후 판과 개스킷을 조심스럽게 점검하고 판 표면에 남은 고체 입자 및 섬유와 같은 잔류 물이 허용되지 않습니다. 껍질을 벗기고 손상된 개스킷은 접착 또는 교체해야합니다.
(4) 기계적 세척을 수행 할 때, 금속 브러시는 판과 개스킷을 긁는 것을 피하기 위해 사용할 수 없습니다.
(5) 고압 워터 건로 청소할 때, 강성 플레이트 또는 강화판을 사용하여 플레이트 뒤쪽을지지해야합니다 (이 플레이트는 열 교환 플레이트와 완전히 접촉해야 함), 노즐과 교환 사이의 거리를 방지합니다. 플레이트는 최대 200mm 이상이어야합니다. 주입 압력은 8mpa보다 크지 않습니다. 한편, 현장 및 기타 장비에서 오염을 피하기 위해 고압 워터 건을 사용하는 경우 물 수집이주의를 기울여야합니다.
2 화학 청소
일반적인 파울 링의 경우, 특성에 따르면, 질량 농도를 가진 알칼리 제제는 4%보다 작거나 동일하거나 질량 농도를 갖는 산제 제제는 청소에 사용될 수 있습니다. 세척 과정은 다음과 같습니다.
(1) 청소 온도 : 40 ~ 60 ℃。
(2) 장비의 분해없이 백 플러싱.
a) 미디어 흡입구 및 아울렛 파이프 라인의 파이프를 미리 연결하십시오.
b) 장비를 "기계 청소 차량"과 연결하십시오.
c) 일반적인 제품 흐름과 같이 청소 용액을 반대 방향으로 장비로 펌핑합니다.
d) 청소 용액 0.1 ~ 0.15m/s의 배지 유량에서 10 ~ 15 분;
e) 마침내 깨끗한 물로 5 ℃ 10 분을 재순환합니다. 깨끗한 물의 클로라이드 함량은 25ppm 미만이어야합니다.
참고 :
(1)이 세척 방법이 채택되면, 청소 유체가 원활하게 배출되도록 조립 전에 예비 연결을 유지해야합니다.
(2) 백 플러시가 수행되면 열교환기를 플러시하는 데 깨끗한 물이 사용되어야한다.
(3) 특수 청소제는 특정 사례에 따라 특수 먼지를 청소하는 데 사용되어야합니다.
(4) 기계적 및 화학적 세정 방법은 서로 함께 사용될 수 있습니다.
(5) 어떤 방법이 채택 되더라도 염산은 스테인레스 스틸 플레이트를 청소할 수 없습니다. 청소 유체 또는 플러시 스테인리스 스틸 플레이트의 제조에는 25 ppm 이상의 클로리온 함량의 물이 사용되지 않을 수 있습니다.
후 시간 : 7 월 -29-2021