참고하세요:

(1) EPDM 개스킷은 30분 이상 방향족 용제와 접촉해서는 안 됩니다.

(2) 청소 시 플레이트 뒷면이 지면에 직접 닿아서는 안 됩니다.

(3) 물 세척 후 플레이트와 개스킷을 주의 깊게 확인하고 플레이트 표면에 고체 입자 및 섬유와 같은 잔여물이 남아 있지 않도록 하십시오. 벗겨지고 손상된 개스킷은 접착하거나 교체해야 합니다.

(4) 기계적 세척시 Plate 및 Gasket의 긁힘을 방지하기 위해 금속 브러시를 사용하지 마십시오.

(5) 고압 물총으로 청소할 경우 변형을 방지하기 위해 플레이트 뒷면을 지지하기 위해 견고한 플레이트 또는 강화 플레이트를 사용해야 합니다(이 플레이트는 열교환 플레이트와 완전히 접촉되어야 함). 노즐과 교환 사이의 거리 판은 최대 200mm 이상이어야 합니다. 주입 압력은 8Mpa보다 크지 않습니다. 한편, 고압 물총을 사용할 경우 현장 및 기타 장비의 오염을 방지하기 위해 물 수집에 주의를 기울여야 합니다.

2  화학적 세척

일반적인 오염의 경우 그 특성에 따라 질량 농도가 4% 이하인 알칼리제 또는 질량 농도가 4% 이하인 산성 제제를 사용하여 청소할 수 있으며 청소 과정은 다음과 같습니다.

(1) 청소 온도 : 40~60℃.

(2) 장비를 분해하지 않고 백플러싱합니다.

a) 미디어 입구 및 출구 파이프라인에 파이프를 미리 연결합니다.

b) 장비를 "청소차 청소 차량"과 연결합니다.

c) 일반적인 제품 흐름과 반대 방향으로 세척액을 장비에 펌핑합니다.

d) 0.1~0.15m/s의 매체 유량으로 세척 용액을 10~15분 동안 순환시킵니다.

e) 마지막으로 깨끗한 물로 5~10분간 다시 순환시킵니다. 깨끗한 물의 염화물 함량은 25ppm 미만이어야 합니다.

참고하세요:

(1) 본 세척방법을 채택할 경우 세척액이 원활하게 배출될 수 있도록 조립 전 예비 연결부를 남겨두어야 합니다.

(2) 역세척을 수행하는 경우 열교환기 세척에는 깨끗한 물을 사용해야 합니다.

(3) 특수한 경우에 따라 특수 오염 청소를 위해 특수 세척제를 사용해야 합니다.

(4) 기계적 세척 방법과 화학적 세척 방법을 서로 조합하여 사용할 수 있습니다.

(5) 어떤 방법을 사용하더라도 염산으로 스테인레스 강판을 청소할 수 없습니다. 염소 함량이 25ppm을 초과하는 물은 세정액 또는 플러시 스테인리스 강판 준비에 사용할 수 없습니다.